UHV闸阀UMC 上海安宇泰供应

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀，铝闸阀（AL Gate Valve）-产品范围：1.5英寸~10英寸-12英寸可生产的产品尺寸，阀体材料：铝、气动、紧凑设计、重量轻。闸门，阀盖密封：Viton O-Ring使用次数：100000次，易于维护，低颗粒（陶瓷球机构）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩，可替代HVA闸阀、VAT闸阀。正确安装、定期维护以及遵守制造商指南对于这些阀门的性能发挥和使用寿命至关重要。UHV闸阀UMC

微泰，多位闸阀，多位置闸阀，多定位闸阀应用于? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD（通过MW-PACVD生长金刚石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备上。可替代VAT闸阀。微泰多位闸阀，多位置闸阀，多定位闸阀其特点是?操作模式：本地和远程?紧急情况：自动关闭?慢速泵送功能。多位闸阀，多位置闸阀，多定位闸阀规格如下：材料：阀体 STS304， 机制 STS304、法兰尺寸(内径) 4英寸~10英寸、闸门密封 FKM(VITON)、开/关振动 无振动、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、闸门压差 ≤1.4 bar、分子流动电导（ISO100）1891 l/s、阀座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率阀体 1X10-10 mbar?L/Sec、压力范围 1X10-10mbar 至 1.4 bar、闸门上任一方向的压差≤1.4 bar、安装位置：任意。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩，上海安宇泰环保科技有限公司。 铝闸阀闸板阀真空闸阀由一个滑动门或板组成，可以移动以阻止或允许通过真空阀体，从而有效地将腔室与外部环境隔离。

微泰半导体闸阀具有独特的三重保护保护环机能：采用铝质材料，减轻重量的同时提高保护环内部粗糙度，有效防止工程副产物的堆积黏附；通过提升保护环内部流速设计，且保护环逐步收窄，进一步提升流速，防止粉尘黏附；采用三元系 O 型圈，确保保护环驱动稳定，可保证 30 万次驱动。该闸阀被广泛应用于 Evaporation（蒸发）、Sputtering（溅射）、Diamond growth by MW-PACVD（通过 MW-PACVD 生长金刚石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷对卷）、Coating（涂层）、Etch（蚀刻）、Diffusion（扩散）、CVD（化学气相沉积）等设备上，能够替代 HVA 闸阀、VAT 闸阀。此闸阀由上海安宇泰环保科技有限公司提供。

微泰半导体主加工设备腔内精确压力控制的闸阀Heating gate valve，加热插板阀，加热闸阀，加热器的加热温度为180-200度（可通过控制器设置温度）-规格：适用双金属（达到200度时，断电后温度下降后重新启动），应用于去除粉末/气体设备。微泰，加热闸阀应用于? Evaporation（蒸发）? Sputtering（溅射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂层）? Etch（蚀刻）? Diffusion（扩散）?CVD（化学气相沉积）等设备上。加热闸阀规格如下：驱动方式：手动或气动、法兰尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法兰类型：ISO、JIS、ASA、CF、连接方式：焊接波纹管、阀门密封：氟橡胶O型圈/Kalrez O型环/EPDM、阀盖密封：氟橡胶O型圈、响应时间：≤ 2 sec、操作压力范围：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、开始时的压差：≤ 30 mbar、闸门的差动压力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、维护前可用次数：200,000次、、安装位置：任意、操作压力(N2)：4 ~ 7 bar。有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩。真空闸阀属于真空隔离阀类别。但是，它也有可用于控制气流。

微泰主要产品有1、-手动锁定阀：操作锁定按钮关闭正在抽吸中的切断阀门切断现象的源头：2、特殊阀门：全金属配件构成，由电磁阀+传感器+D-Sub+角阀组成；3、三位阀：半开功能的压力控制阀。气动闸阀：?产品范围：1.5~30英寸?高压/超高压都可用?维护前可用次数：25万次?响应时间：0.2秒~3秒；手动（锁定）闸阀?产品范围：1.5~12英寸?高压/超高压都可用?维护前可用次数：25万次；专门用闸阀：产品范围：1.5~12英寸?高压/超高压都可用?维护前可用次数：25万次，响应时间：0.2秒客户指定的法兰，可安装角阀；三位闸阀：产品范围：2.5~12英寸?高压/超高压都可用?维护前可用次数：20万次?响应时间：0.2秒~3秒；有中国台湾Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、马来西亚的英菲尼亚半导体、日本Micron、三星半导体和其它的设备使用业绩，可替代HVA闸阀、VAT闸阀。上海安宇泰环保科技有限公司。闸阀通过阀座和闸板接触进行密封，通常密封面会堆焊金属材料以增加耐磨性。化学气相沉积闸阀ALUMINUM GATE VALVE

高压闸阀，属于强制密封式阀门，所以在阀门关闭时，必须向闸板施加压力，以强制密封面不泄漏。UHV闸阀UMC

微泰,传输阀、转换阀、输送阀、转移阀是安装在半导体PVDCVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它充当将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽。I型和L型转移阀是用于半导体PVD CVD设备工艺模块和工艺室之间的阀门系统。它们的作用是将位于工艺模块中的晶圆转移到工艺室的沟槽，并极大限度地减少由于闸板打开和关闭造成的真空压力变化，以维持腔室内的真空压力。I型转移阀由铝或不锈钢制成，用于传输晶圆小于450毫米的半导体系统和隔离工艺室。其特点是叶片在垂直方向上快速移动，以确保完美的腔室压力维持。而L型转移阀也由铝或不锈钢制造，其特点是设计紧凑，易于维护。L型转移阀的闸门在两个阶段从垂直到水平方向移动，以确保完美的腔室压力维护。这两种类型的转移阀都具有高耐用性和长寿命的优点，并且在闸门开启和关闭过程中极大限度地减少了振动，对温度变化也非常稳定，以确保较长的使用寿命。如果您需要了解更多关于微泰传输阀、转换阀、输送阀、转移阀的信息，请联系上海安宇泰环保科技有限公司。UHV闸阀UMC